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  • 潔創(chuàng)表面處理采用化學(xué)清洗結(jié)合物理清洗的方法,將氧化前、光刻后、擴散前、蒸發(fā)電極工序中的硅片,通過清洗劑與清洗設(shè)備結(jié)合,加快化學(xué)反應(yīng)速度加速溶解,提高去污效果
  • 半導(dǎo)體芯片清洗、石英、硅環(huán)、晶、金屬材料等。能及時去除表面雜質(zhì),避免污染物存留使表面漏電增大、造成晶體缺陷、影響器件性能和成品率。保證半導(dǎo)體器件高可靠性、穩(wěn)定性和使用壽命。
  • 半導(dǎo)體表面處理過程中有機物質(zhì):如松香、蠟、脂肪、油類、樹脂、光刻膠、有機溶劑、纖維等。無機物質(zhì):如金屬、金屬離子、氧化物、氣態(tài)狀物質(zhì)、無機鹽以及其它無機化合物。其他物質(zhì):如灰塵以及其他可溶性物質(zhì)。
  • 無顆粒、表面雜質(zhì)、液態(tài)物質(zhì)、固態(tài)物質(zhì)
  • 潔創(chuàng)表面處理可提供: 安全合格的清洗工藝、可追溯/審計跟蹤、符合行業(yè)法規(guī)、循環(huán)過濾、高效空氣凈化、消除整個生產(chǎn)鏈中的交叉污染
  • ?潔創(chuàng)表面處理的專家團隊保證全面的系統(tǒng)合格

    ?lQ / 0Q 是應(yīng)要求交付范圍的一部分

    ?關(guān)于 PQ,潔創(chuàng)的專業(yè)團隊愿為您提供幫助

    ?Audit Trail和CFR 21是潔創(chuàng)系統(tǒng)的一部分
集成電路
兆聲波清洗設(shè)備:
功       能 Function description: 現(xiàn)有的兆聲清洗技術(shù)主要分為槽式兆聲波振板、噴淋式兆聲噴頭、貼合式兆聲清洗頭三種。槽式兆聲清洗與傳統(tǒng)超聲波清洗相似般將兆聲發(fā)射裝置置于水槽底部,清洗時晶圓放置在水槽中。該種方式的優(yōu)點是使用方便,可對產(chǎn)品進行批量清洗,故此又被稱為“批量式”兆聲清洗。目前對晶圓的批量清洗、化學(xué)機械拋光、刻蝕、顯影等濕法處理多采用槽式兆聲裝置。
先進封裝/晶圓制造
封裝高效波清洗設(shè)備:
功       能 Function description: 潔創(chuàng)該封裝高效清洗設(shè)備應(yīng)用于晶圓級封裝 雙管齊下的高效率清洗。去除晶圓、硅、封裝等半導(dǎo)體經(jīng)過拋光后表面殘留的有機物顆粒、金屬等,以確保晶圓、硅、封裝等半導(dǎo)體表面的潔凈度,使之達到后道工序的品質(zhì)要求。
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